반도체공장의 웨이퍼 공정에 사용되는 포토레지스트(감광제)제거용 화학제인` 하이드록시라민 프리 베이스(HAFB)''의 공급부족이 발생, 반도체업체들에 압박을 가하고 있다. 지난 10일 일본 닛신화학 공장에서 폭발사고가 발생하면서 HAFB의 생산이 중단됐기 때문이다. 이에 따라 세계적으로 유일한 HAFB생산업체인 바스프는 생산량을 늘리기 위해 안간힘을 쓰고 있으며 설비 확장도 고려하고 있는 것으로 알려졌다.
이와 함께 다른 반도체 재료 업체들은 HAFB를 대신한 웨이퍼 세정제를 활발히 모색중이지만 당분간은 HAFB의 공급부족이 불가피할 것으로 예상된다.
바스프 본사의 한 관계자는 이번 사태에 대해 "우리는 세계의 HAFB수요에 대처하기 위해 온갖 노력을 기울이고 있다"면서 독일 루드비히샤펜 공장의 생산량을 50% 늘리고 미국에 제2공장 건설을 추진중이라고 말했다.
이 관계자는 "그러나 단기적으로는 물량 배정을 피할 수 없을 것"이라고 밝혔다.일본 닛신화학의 HAFB공장은 2-3개월의 복구 기간이 필요한 실정이다. HAFB는 전세계 반도체 공장의 80%가 사용하고 있는 화학제다.
